比利時微電子研究中心（imec）與三井化學共同宣布，為了推動針對極紫外光（EUV）微影應用的奈米碳管（CNT）光刻薄膜技術商業化，雙方正式建立策略夥伴關係。此次合作，三井化學將把imec根據奈米碳管所研發的創新光罩護膜技術，整合至三井化學的光刻薄膜技術，目標是實現能夠全面投產的規格，預計將在2025~2026年導入高功率的極紫外光（EUV）系統。
此策略夥伴關係旨在共同開發光刻薄膜及極紫外光（EUV）光罩護膜，由imec提供技術諮詢與極紫外光（EUV）曝光機測試，三井化學進行商用生產。這些光罩護膜被設計用來保護光罩在極紫外光（EUV）曝光時免受汙染，不僅具備很高的極紫外光（EUV）穿透率（≧94%）和極低的極紫外光（EUV）反射率，對曝光的影響也能控制到最小，這些都是要讓先進半導體製造達到高良率和高產量所需的關鍵性能。這些奈米碳管（CNT）光罩護膜甚至還能承受超過1kW等級的極紫外光（EUV）輸出功率，有助於發展新世代（高於600W）的極紫外光源技術。於量產導入極紫外光（EUV）微影技術的廠商對這些性能產生濃厚興趣。因此，此次合作的雙方將攜手開發可供商用的奈米碳管（CNT）光罩護膜技術，以滿足市場需求。
