Integrated Materials,Inc.宣佈該公司的SiFusion晶片架式蒸發皿已被Aviza Technology,Inc.選用於Aviza的RVP-300plus擴散爐。Aviza選擇SiFusion多晶矽蒸發皿旨在使其產品獲得結構完整性、高純度和高效能。
擴散爐被用來對300 mm晶片進行關鍵的高溫退火處理。超純淨SiFusion架式蒸發皿使得Aviza爐具能夠滿足晶片製造商在晶片滑動、金屬污染物、坡度和熱穩定率方面的苛刻標準。專為降低晶片所承受壓力的高溫工藝為爐內固定裝置創造了極端的條件，引發晶片滑動、晶格應變以及其他可能導致裝置效能下降的不穩定性。SiFusion晶片載波器採用純多晶矽製造，使用純多晶矽可獲得出眾的結構穩定性，能夠在苛刻的溫度條件下正常工作，不會發生變形，在苛刻的工藝中，可承受的最高溫度達1200°C。
Aviza Technology,Inc.熱業務部副總裁兼總經理May Su說，「在選擇的過程中，我們發現SiFusion 蒸發皿具有獨一無二的競爭優勢。SiFusion蒸發皿證明，多晶矽固定裝置經改善的無滑動效能和抗熱衝擊效能幫助我們滿足了客戶進階的工藝要求。此外，SiFusion的設計也可以被輕鬆整合到我們的系統結構之中。」
Integrated Materials的總裁兼首席執行官Tom Cadwell說，「我們十分高興能夠與Aviza合作，為無滑動高溫退火工藝提供爐具」。「SiFusion爐具所採用的創新技術克服了傳統的石英和金剛砂在高溫環境和 LPCVD 氮化物及聚乙烯工藝應用中的效能屏障。」
