金屬工業研究發展中心日前宣布成功開發連續式鍍膜自動化系統，該技術具備低成本與高效率的特性，將可支援國內高科技產業生產並帶動國內鍍膜產業發展。
金屬中心表示，隨著國內光電及半導體產業快速發展，對真空鍍膜製程技術及設備需求日益殷切，金屬中心在經濟部科技專案計畫之下，整合連續式製程監控模組與鍍膜硬體設備，開發出這套連續式鍍膜自動化系統，成本約只有進口設備的五分之三。
真空鍍膜已被大量應用在光電、半導體、光磁儲存媒體、被動元件、平面顯示器、微機電、光學元件與生醫材料等，目前國內自製的鍍膜設備仍以單一腔體為主，一次只能進行一批次產品的單一鍍膜處理，生產效率低，而金屬中心開發的這套連續式鍍膜自動化系統，採多腔體連續式設計，可同時進行多批次產品的鍍膜與複合鍍膜處理，有效提高生產效率和降低成本。
國內年進口鍍膜相關設備產值約新台幣十多億元，金屬中心表示，這套系統的成功開發除可取代進口貨，並可帶動國內鍍膜產業發展。
