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搜尋「微影製程技術」,共 7

新產品引進(NPI代理商貿澤電子Mouser Electronics首要任務是庫存來自750多家製造商合作夥伴的各種最新產品與技術,為客戶提供優勢,協助加快產品上市速度。 貿澤在上個月發表超過287項新產品,且這些產品均可在訂單確認後當天出

全球材料、應用技術及服務綜合供應商Dow Corning Electronics的矽晶片微影解決方案事業部今日宣佈正式開始供應Dow Corning XR-1541電子束光阻劑,此一產品是專為實現次世代、直寫微影製程技術開發所設計。這一新型

家登精密工業(LTD),日前榮獲2007年第十六屆臺灣國家磐石獎以及青年創業楷模獎兩項殊榮的肯定。家登精密成立於1998年,設立初期主要專注在射出模具與高精度零件的製造與設計。自2000年開始,家登精密進入黃光製程領域,致力於半導體前段製程

為成為下一世代的市場贏家,奈米級先進製程已經成為全球各大半導體產商積極投入之研究領域,而隨著製程不斷朝向65奈米、45奈米及32奈米以下尺寸推進,所面臨的技術挑戰也更加艱難。本文將為讀者深入剖析目前奈米級先進製程之主要趨勢與全球廠商發展現況。

微影技術在半導體製程中一直被認為是最重要的步驟,包括一直被廣泛應用在定義圖案的光學微影以及被應用在光罩製作上的電子束微影,而未來進入奈米時代之後,微影技術也面臨許多更新的挑戰,本文將藉由簡介先進微影技術之能力與限制,為讀者剖析目前主流微影術技術之應用與發展趨勢。