AI代理重塑網路犯罪地下經濟鏈 助長攻擊規模與自動化 (2025.12.16)

在生成式 AI 快速滲透各行各業之際，網路犯罪生態系也同步進化。根據趨勢科技最新研究指出，隨著「AI 代理（Agentic AI）」技術成熟，網路犯罪正從過往的「網路犯罪即服務（Cybercrime-as-a-Service）」模式，進一步…

3D列印重新定義設備與製程 (2025.12.10)

對追求速度與性能的半導體產業而言，3D列印正逐步成為改寫競爭格局的重要武器，而在AI時代，掌握AM就意味著掌握製造創新的主導權。…

[SEMICON Taiwan] EVG LITHOSCALE無光罩曝光機可實現量產化目標 (2020.09.23)

晶圓接合暨微影技術設備商EV Group（EVG）在9月23日至25日於台北南港展覽館1館舉行的SEMICON Taiwan發表全新LITHOSCALE無光罩曝光系統，這是第一個採用EVG革命性的MLE（無光罩曝光）技術的產品。 LITHO…

EVG突破半導體先進封裝光罩對準曝光機精準度 (2017.03.13)

微機電系統(MEMS)、奈米科技、半導體晶圓接合暨微影技術設備廠商EV Group (EVG)推出IQ Aligner NT，為量產型先進封裝應用提供先進的自動化光罩對準曝光系統。全新IQ Aligner NT內含高強度及高均勻度曝光元件、…

奈米世代微影技術之原理及應用 (2004.08.04)

微影技術在半導體製程中一直被認為是最重要的步驟，包括一直被廣泛應用在定義圖案的光學微影以及被應用在光罩製作上的電子束微影，而未來進入奈米時代之後，微影技術也面臨許多更新的挑戰，本文將藉由簡介先進微影技術之能力與限制，為讀者剖析目前主流微影術技術之應用與發展趨勢。…